🖼 Литография в экстремальном ультрафиолете (EUV) — ключевая технология для соврем...
Литография в экстремальном ультрафиолете (EUV) — ключевая технология для современных полупроводников, но она требует огромных энергозатрат. Сегодняшние EUV сканеры потребляют до 1170 кВт, а будущие модели High-NA будут требовать до 1400 кВт. Количество таких машин на фабриках Intel, Micron, Samsung, SK hynix и TSMC продолжает расти. К 2030 году число фабрик с EUV оборудованием увеличится с 31 до 59, и они будут потреблять 6100 ГВт/год электроэнергии.
По оценкам TechInsights, к 2030 году фабрики с EUV оборудованием будут потреблять более 54 000 ГВт электроэнергии в год — это больше, чем потребляют такие страны, как Сингапур или Греция. Энергопотребление фабрик с EUV оборудованием станет серьезным вызовом для энергетической инфраструктуры, учитывая, что такие компании, как AWS, Google и Microsoft, уже испытывают трудности с обеспечением энергоснабжения своих дата-центров.
